プラズマ技術は，過去から現在まで多岐に渡って，人類の発展に大きく貢献してきました。蛍光灯などの照明技術，溶接などの材料加工技術にはじまり，現在では半導体製造プロセスに欠くことのできない薄膜形成やナノ加工技術に，プラズマ技術が使われています。今後は，医療・バイオ分野への応用や，核融合プラズマによる発電など，プラズマ技術が人類に貢献する範囲はさらに拡大していきます。

　本グループでは，新たな技術革新（イノベーション）を生み出す先進的プラズマプロセスの研究・開発に取り組んでいます。主な対象材料は，ダイヤモンドライクカーボン（Diamond-like carbon: DLC）と呼ばれるアモルファス炭素膜などの炭素系薄膜です。高度なプラズマ生成・制御技術は，それら手法の確立のたびに多くのイノベーションをもたらしてきました。現代社会は数多くの課題を抱えていますが，そのうちのひとつでも少ない未来社会の実現を目指し，研究を進めています。

研究概要

• 研究キーワード：プラズマプロセス，真空，薄膜，ダイヤモンドライクカーボン，アモルファスカーボン，PVD，CVD，ドライエッチング，省エネ，低摩擦，強磁性，超伝導，細胞活性，生体材料
• 「高摺動性硬質カーボン膜の超高速成膜」：独自のプラズマCVD法により，優れた機械的特性を有するダイヤモンドライクカーボン膜の超高速成膜を実現。従来法より1桁以上速い成膜速度を達成。
• 「室温強磁性カーボン膜の作製」：次世代メモリ材料としての可能性も持つQカーボン膜のプラズマプロセス合成に関する研究。
• 「高生体適合性カーボン膜中の酸素量制御」：高い生体適合性が期待される酸素含有ダイヤモンドライクカーボン膜中の酸素量制御に関する研究。
• 「硬質カーボン膜の選択的ドライエッチング技術の開発」：プラズマ-基材界面へのナノ構造形成によるアモルファスカーボン膜の選択的エッチングに関する研究。